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发布时间:2019-07-20 09:48:13
【原创】水基清洗剂搭配水基清洗设备,需要考虑的要点有哪些?-合明科技
关键词导读:水基清洗剂、水基清洗设备、超声波清洗设备、通过式喷淋清洗设备、IPC-CH-65 B CN
在IPC-CH-65B中文清洗标准中,水基清洗步骤定义:
①、洗涤:首要的清洗操作,利用化学和物理作用将不良杂质(污染物)从表面去除。洗涤液可由纯水或含弱碱性***的水所构成。
②、冲洗:清洗作业(通常跟随在洗涤步骤之后),干净纯水冲洗置换,通常是通过稀释,任何残留污染的洗涤液。通常会采用多道冲洗来减少任何残留污染。
③、干燥: 去除任何残留在已洗涤和已冲洗表面的水的制程。干燥后必须是无污的表面。
水基清洗工艺概述:
清洁的目的是去除零件表面的外来杂质,以避免对产品的性能和外观上造成不利影响。如清洁丝网和钢网是为保持其***佳状态以方便再次使用。
所需的清洁程度可能会因产品类型和性能需求有所不同,如丝网和钢网通常清洗到“视觉清洁”的状态,部件清洁必须能够消除可见与不可见的污染物,如离子化的材料及可能会干扰润湿性和粘合性的残留物。
对于电子组装件,“视觉清洁”的外观可能会达到令人满意的外观标准,但确保产品性能方面可能不会令人满意。
因此,通常采用半定量和定量测试,以确认清洗过程中的目标得到满足,在清洁中“性能设置要求”是首要目标,其他目标也必须设定和实现。清洗过程中不得损坏已清洁的部分,清洗必须在实际和符合成本效益方面能够完成。应用的清洗工艺也必须是安全的以及环境的相容性。
水本身是一个非常安全的材料,不会损坏电子装配过程中使用的大部分部件。水在安全和健康方面不存在任何问题。使用低离子浓度的DI水在某些情况下可能影响表面。另外,零件清洗后水必须被清除,因为湿气的存在可能会干扰电气性能,所以干燥步骤必须是水基清洗过程中的一部分。在所有的清洗过程,需要检查零件的相容性和冲洗的敏***。必要时,应该检查这个设计以确保敷形涂覆足够干燥。
当选择一个清洗工艺时,必须考虑许多因素,处理产量、劳动力、空间要求、洗涤/冲洗介质、搅拌方法、应用条件和设备的功能都必须考虑到。
总之,清洗工艺设计的目标是对产品没有损害,采取可操作的、有竞争力的成本、安全和环保的方法,从零件表面清除不需要的物质(工艺残渣)。
综上,水基清洗配套清洗设备是必需的,以便确保安全可靠的水基清洗工艺流程。
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